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华海清科:关于“集成电路化学机械抛光关键技术与装备”项目荣获2023年度国家技术发明奖一等奖的自愿性披露公告 下载公告
公告日期:2024-06-25

华海清科股份有限公司关于“集成电路化学机械抛光关键技术与装备”项目荣获2023年度国家技术发明奖一等奖的自愿性披

露公告

本公司董事会及全体董事保证本公告内容不存在任何虚假记载、误导性陈述或者重大遗漏,并对其内容的真实性、准确性和完整性依法承担法律责任。

近日,华海清科股份有限公司(以下简称“公司”)和清华大学共同完成的“集成电路化学机械抛光关键技术与装备”项目荣获2023年度国家技术发明奖一等奖,公司董事长、首席科学家路新春先生作为项目第一完成人获得2023年度国家技术发明奖一等奖证书。

化学机械抛光(CMP)是先进集成电路制造前道工序、先进封装等环节必需的关键制程工艺,公司以清华大学科技成果转化的CMP技术成果为基础,进行CMP装备产业化应用的核心技术研发,率先推出国内首台拥有自主知识产权12英寸CMP装备,实现了国内市场CMP装备领域的国产替代。公司持续加大自主研发力度,推出多款CMP商业化机型,并依托稳定的性能和良好的售后服务优势,批量进入行业知名芯片制造企业,国内市场占有率达到较高水平。

国家技术发明奖是我国在科学技术领域的最高奖项之一。本次获奖,即是对公司核心研发团队在CMP领域技术创新成果的充分肯定,也是对公司长期推动CMP装备国产化的高度褒奖。

本次获奖对公司近期业绩暂无重大影响,敬请广大投资者注意投资风险。

特此公告

华海清科股份有限公司

董 事 会2024年6月25日


  附件:公告原文
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